日企攻坚EUV光刻!砸90亿力夺半导体设备高地

工控网 2020年7月14日
摘要:  要想制造5nm及更先进芯片,离不开EUV(极紫外光)光刻技术,目前多家日本芯片设备制造商正积极争夺EUV适用的制造设备市场份额。   2020财年,全球第三大半导体设备制造商东京电子(Tokyo ...
查看原文
免责声明:本网摘要信息均来自互联网公开渠道,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,如需查看请跳转原文,如涉及任何链接相关问题,请联系 media@nengapp.com
佳能 / 日本半导体设备协会 / 东芝集团 / 三星电子 / SEMI 查看更多